ASML旨在实现超高数值孔径近紫外光刻技术，进一步缩小芯片尺寸
随着科技的不断发展，芯片制造技术也在不断进步。最近，全球领先的光刻设备制造商ASML公司宣布他们正致力于开发超高数值孔径近紫外光刻技术，旨在进一步缩小芯片尺寸，将芯片制造技术推向新的高度。
这项技术被称为超高数值孔径近紫外光刻技术，将光刻机的数值孔径从1.35提升至1.5，为芯片制造带来了更高的分辨率和更大的设计自由度。这意味着未来芯片将能够制造更加复杂、更加紧凑的设计，从而提高芯片性能和功耗效率。
ASML的这项技术突破不仅为芯片行业带来了新的可能性，也对整个科技产业产生着深远的影响。随着芯片尺寸的不断缩小，整个智能设备产业也将迎来一场革命，让我们拭目以待吧！
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